发明名称 一种高强度高塑性纳米镍及其镀液和制备方法
摘要 本发明提供一种高强度高塑性纳米镍及其镀液和制备方法,镀液的组成为氨基磺酸镍,氯化锰,氯化镍,硼酸,十二烷基硫酸钠,糖精;制备方法为采用直流电沉积法,在氨基磺酸镍体系中电沉积制备纳米镍;本发明获得的纳米镍的抗拉强度为1200MPa-1300MPa,断裂总伸长率为12-13%,纳米镍的晶粒尺寸分布范围在10-100nm之间。本发明获得的纳米镍与传统熔炼法获得的纯镍相比,可显著提高其强度,与目前报道的电沉积方法获得的一般纳米镍相比,在塑性上得到了显著的提高。采用氨基磺酸镍为主盐,具有低应力,电镀可施加电流较大,容易获得良好的镀层表面质量等优点。本发明可以用于高效率生产高强度高塑性纳米镍。
申请公布号 CN100588748C 申请公布日期 2010.02.10
申请号 CN200710009509.2 申请日期 2007.09.12
申请人 福州大学 发明人 戴品强;许伟长;伍文杰;项忠楠
分类号 C25D3/12(2006.01)I 主分类号 C25D3/12(2006.01)I
代理机构 福州元创专利商标代理有限公司 代理人 蔡学俊
主权项 1.一种纳米镍的镀液,其特征在于:所述镀液的配方成分为:氨基磺酸镍Ni(SO3NH2)2·4H2O400g/L-600g/L,氯化锰MnCl2·4H2O 10g/L-50g/L,氯化镍NiCl2·6H2O 10g/L-40g/L,硼酸H3BO3 30g/L-50g/L,十二烷基硫酸钠C12H25SO4Na 0.05g/L-0.1g/L,糖精C6H5COSO2NH2 2g/L-5g/L;采用所述镀液制备的纳米镍的晶粒尺寸在10nm-100nm之间,平均晶粒尺寸为25nm-27nm,厚度达200μm-300μm;所述纳米镍的镀层表面光亮,硬度为HV550-HV600,抗拉强度在1000MPa-1300MPa之间,断裂总伸长率为10%-13%。
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