发明名称 |
リソグラフィ装置のための支持テーブル、リソグラフィ装置、及び、デバイス製造方法 |
摘要 |
【課題】例えば、固定または装着の速さを高め、及び/または、スループットを高めることができるシステムを提供する。【解決手段】基板(W)の表面を支持する支持テーブル(WT)であって、支持テーブルは、基板の表面に実質的に平行なベース面(22)と、ベース面の上方に突出する複数のバール(20)であって、各バールがベース面の上方に末端と第1高さを有し、支持テーブルによって基板が支持されるとき基板が各末端により支持されるように配設されている複数のバールと、隙間により隔てられた複数の細長隆起突部(45)であって、各細長隆起突部がベース面の上方に第2高さを有し、バール間でベース面の上方に突出しかつ第2高さが第1高さより小さい複数の細長隆起突部と、を備え、突部(45)は、複数の隙間がベース面の端部に向かう直線ガス流路(82)を形成するよう整列するように、配設されている。【選択図】図8 |
申请公布号 |
JP2016537663(A) |
申请公布日期 |
2016.12.01 |
申请号 |
JP20160518137 |
申请日期 |
2014.09.02 |
申请人 |
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. |
发明人 |
フーベン、マルティユン;デ コック、アルヴィン;ヴァン アベーレン、ヘンドリクス、ヨハネス、マリヌス;ヴァン デン ヒューベル、マルコ、アドリアヌス、ペーター |
分类号 |
G03F7/20;H01L21/683 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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