发明名称 |
适用于CMOS图像传感器的低暗电流有源像素及其制造方法 |
摘要 |
本发明的适用于CMOS图像传感器的低暗电流有源像素的结构在N衬底上生长一层P+型外延层,在P+型外延层上生长一层P型外延层,在P外延层区内注入一层N+区,并在N+区浅注入一层P区,从而形成两个PN结,可以吸收不同波长的注入光。本发明提出的是一种基于N衬底和光电二极管的有源像素结构,这种有源像素结构不仅有效的降低了暗电流、提高了量子效率,而且改进了在蓝光区域的量子效应。由于减少了光产生的电子-空穴对的复合,因此可以产生相应的效果。利用N衬底可以有效的防止像素之间的光电荷的扩散,防止弥散现象。 |
申请公布号 |
CN1889269A |
申请公布日期 |
2007.01.03 |
申请号 |
CN200510083008.X |
申请日期 |
2005.07.12 |
申请人 |
北京思比科微电子技术有限公司 |
发明人 |
金湘亮 |
分类号 |
H01L27/146(2006.01);H01L21/82(2006.01) |
主分类号 |
H01L27/146(2006.01) |
代理机构 |
北京凯特来知识产权代理有限公司 |
代理人 |
郑立明 |
主权项 |
1、一种适用于CMOS图像传感器的低暗电流有源像素,其特征在于,主体包括N型衬底、P+外延层与P型外延层;P+外延层生长于N衬底上,P型外延层生长于P+外延层上;所述的P型外延层还设有N+区,形成一个PN结;在N+区上还设有P区,形成另一个PN结。 |
地址 |
100085北京市海淀区上地信息路2号创业园D栋412 |