发明名称 适用于CMOS图像传感器的低暗电流有源像素及其制造方法
摘要 本发明的适用于CMOS图像传感器的低暗电流有源像素的结构在N衬底上生长一层P+型外延层,在P+型外延层上生长一层P型外延层,在P外延层区内注入一层N+区,并在N+区浅注入一层P区,从而形成两个PN结,可以吸收不同波长的注入光。本发明提出的是一种基于N衬底和光电二极管的有源像素结构,这种有源像素结构不仅有效的降低了暗电流、提高了量子效率,而且改进了在蓝光区域的量子效应。由于减少了光产生的电子-空穴对的复合,因此可以产生相应的效果。利用N衬底可以有效的防止像素之间的光电荷的扩散,防止弥散现象。
申请公布号 CN1889269A 申请公布日期 2007.01.03
申请号 CN200510083008.X 申请日期 2005.07.12
申请人 北京思比科微电子技术有限公司 发明人 金湘亮
分类号 H01L27/146(2006.01);H01L21/82(2006.01) 主分类号 H01L27/146(2006.01)
代理机构 北京凯特来知识产权代理有限公司 代理人 郑立明
主权项 1、一种适用于CMOS图像传感器的低暗电流有源像素,其特征在于,主体包括N型衬底、P+外延层与P型外延层;P+外延层生长于N衬底上,P型外延层生长于P+外延层上;所述的P型外延层还设有N+区,形成一个PN结;在N+区上还设有P区,形成另一个PN结。
地址 100085北京市海淀区上地信息路2号创业园D栋412
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