| 摘要 |
본 발명의 임프린트 장치는, 패턴이 형성된 패턴 영역을 포함하는 몰드를 이용하여 기판의 피처리 영역 상에 수지의 패턴을 형성하고, 상기 몰드 상의 패턴 영역 또는 상기 기판의 피처리 영역 중 어느 하나인 대상 영역의 형상을 보정하도록 구성된 보정 유닛을 포함하고, 상기 보정 유닛은, 상기 몰드 또는 상기 기판 중 상기 대상 영역에 대응하는 대상물을, 상기 몰드 상의 패턴 영역의 면적보다 작은 면적을 갖는 가열 영역에서 가열하도록 구성된 가열 유닛과; 상기 대상 영역과 상기 가열 영역의 상대 위치를 변화시킴으로써 상기 대상 영역에 대하여 상기 가열 영역을 주사하도록 구성된 주사 유닛과; 상기 대상 영역의 보정 변형량에 관한 정보를 취득하고, 상기 정보에 기초하여 상기 가열 유닛 및 상기 주사 유닛을 제어하도록 구성된 제어 유닛을 더 포함한다. |
