发明名称 场发射元件阵列基板及其制造方法
摘要 本发明公开了一种场发射元件阵列基板的制造方法包括下列步骤:首先,提供一基板。接着,形成阴极导电层于基板上。然后,形成具有多个孔洞的阳极处理层于此阴极导电层上。之后,在这些孔洞中,分别形成多个电子发射源。此外,形成一绝缘层,以覆盖电子发射源及阳极处理层。另外,形成一栅极材料层于绝缘层上。之后,图案化栅极材料层以形成一栅极层,其中栅极层与绝缘层中具有一暴露出电子发射源的开口。
申请公布号 CN101339873A 申请公布日期 2009.01.07
申请号 CN200710127862.0 申请日期 2007.07.06
申请人 中华映管股份有限公司 发明人 林贞君;潘扶民;张凯钧;郭全雯;刘梅;莫启能
分类号 H01J9/02(2006.01);H01J9/00(2006.01);H01J29/02(2006.01);H01J31/12(2006.01) 主分类号 H01J9/02(2006.01)
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 代理人 陈亮
主权项 1.一种场发射元件阵列基板的制造方法,包括:提供一基板;形成一阴极导电层于该基板上;形成一阳极处理层于该阴极导电层上,其中该阳极处理层具有多个孔洞;于该些孔洞内,分别形成多个电子发射源;形成一绝缘层,以覆盖该阳极处理层与该些电子发射源;形成一栅极材料层于该绝缘层上;以及图案化该栅极材料层以形成一栅极层,其中该栅极层与该绝缘层中具有一暴露出该些电子发射源的开口。
地址 台湾省台北市中山北路三段二十二号