发明名称 |
场发射元件阵列基板及其制造方法 |
摘要 |
本发明公开了一种场发射元件阵列基板的制造方法包括下列步骤:首先,提供一基板。接着,形成阴极导电层于基板上。然后,形成具有多个孔洞的阳极处理层于此阴极导电层上。之后,在这些孔洞中,分别形成多个电子发射源。此外,形成一绝缘层,以覆盖电子发射源及阳极处理层。另外,形成一栅极材料层于绝缘层上。之后,图案化栅极材料层以形成一栅极层,其中栅极层与绝缘层中具有一暴露出电子发射源的开口。 |
申请公布号 |
CN101339873A |
申请公布日期 |
2009.01.07 |
申请号 |
CN200710127862.0 |
申请日期 |
2007.07.06 |
申请人 |
中华映管股份有限公司 |
发明人 |
林贞君;潘扶民;张凯钧;郭全雯;刘梅;莫启能 |
分类号 |
H01J9/02(2006.01);H01J9/00(2006.01);H01J29/02(2006.01);H01J31/12(2006.01) |
主分类号 |
H01J9/02(2006.01) |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 |
代理人 |
陈亮 |
主权项 |
1.一种场发射元件阵列基板的制造方法,包括:提供一基板;形成一阴极导电层于该基板上;形成一阳极处理层于该阴极导电层上,其中该阳极处理层具有多个孔洞;于该些孔洞内,分别形成多个电子发射源;形成一绝缘层,以覆盖该阳极处理层与该些电子发射源;形成一栅极材料层于该绝缘层上;以及图案化该栅极材料层以形成一栅极层,其中该栅极层与该绝缘层中具有一暴露出该些电子发射源的开口。 |
地址 |
台湾省台北市中山北路三段二十二号 |