基板处理装置及基板处理方法

摘要

本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法。在利用冲洗液冲洗掉基板上的显影液之后，基板的转速降低，从而在基板的整个表面上会形成冲洗液的液层。然后，基板的转速上升。由于基板的转速上升，所以离心力变得稍大于张力，因此液层以周边部厚度变厚且中心部厚度变薄的状态保持在基板上。接着，气体供给喷嘴向液层的中心部喷出气体，从而在液层的中心部形成孔。由此，与作用于液层周边部的离心力相平衡的张力消失。另外，随着气体的喷出，基板的转速进一步上升。由此，液层向基板的外侧移动。

主权项

1. 一种基板处理装置，对曝光处理后的基板进行显影处理，其特征在于，具有：基板保持装置，其将基板保持为大致水平；旋转驱动装置，其使上述基板保持装置所保持的基板绕垂直于该基板的轴旋转；显影液供给部，其向上述基板保持装置所保持的基板上供给显影液；液层形成部，其通过向上述基板保持装置所保持的基板上供给冲洗液来冲洗掉基板上的显影液，然后在基板上形成冲洗液的液层；气体喷出部，其在旋转驱动装置驱动旋转基板的状态下，向通过上述液层形成部而形成在基板上的液层的中心部喷出气体。