发明名称 中浓盘磨机微调控制系统与方法
摘要 本发明提供一种中浓盘磨机微调控制系统与方法,系统包括温度监控模块、设备运行监控模块和依次连接的打浆质量控制模块、电流检测模块、位移控制模块、微调伺服控制模块、进退刀控制模块,温度监控模块的输出端分别与设备运行监控模块和进退刀控制模块连接,进退刀控制模块的输出端分别外接盘磨机的液压装置和端面传动装置;其方法是微调伺服控制模块结合位移控制模块和电流检测模块的数据进行计算,进退刀控制模块根据计算结果控制液压装置及端面传动装置动作,实现磨片组件间距调节,此过程温度监控模块监控盘磨机主轴轴承温度。本发明实现对盘磨机打浆自动控制,减少人工操作,提高了磨片组件间距的调节精度,也提高打浆质量和打浆效率。
申请公布号 CN101654887A 申请公布日期 2010.02.24
申请号 CN200910192227.X 申请日期 2009.09.11
申请人 华南理工大学 发明人 朱小林;刘焕彬;黄运贤
分类号 D21D1/30(2006.01)I 主分类号 D21D1/30(2006.01)I
代理机构 广州市华学知识产权代理有限公司 代理人 杨晓松
主权项 1、中浓盘磨机微调控制系统,其特征在于,包括温度监控模块、设备运行监控模块、打浆质量控制模块、电流检测模块、位移控制模块、微调伺服控制模块和进退刀控制模块,其中温度监控模块的输入端外接温度传感器,温度监控模块的输出端分别与设备运行监控模块和进退刀控制模块连接,打浆质量控制模块、电流检测模块、位移控制模块、微调伺服控制模块和进退刀控制模块依次连接,进退刀控制模块的输出端分别外接盘磨机的液压装置和端面传动装置;位移控制模块的输入端还外接位置传感器,电流检测模块的输入端还外接电流传感器。
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