发明名称 具有晶粒置入通孔之晶圆级封装及其方法
摘要 本发明系揭露一种封装结构,包含具有晶粒置入通孔之基底、连接穿孔结构及第一接触垫。晶粒系配置于上述晶粒置入通孔之内,环绕层充填于晶粒与晶粒置入通孔侧壁间之间隙,及/或形成于晶粒之下表面。介电层形成于晶粒与基底之上,重布层(RDL)形成于介电层之上且耦合至第一接触垫。保护层形成于重布层(RDL)之上,以及第二接触垫形成于基底之下表面及连接穿孔结构之下。
申请公布号 CN101221936A 申请公布日期 2008.07.16
申请号 CN200810000107.0 申请日期 2008.01.02
申请人 育霈科技股份有限公司 发明人 杨文焜
分类号 H01L23/48(2006.01);H01L23/13(2006.01);H01L21/50(2006.01);H01L21/58(2006.01);H01L21/60(2006.01) 主分类号 H01L23/48(2006.01)
代理机构 北京挺立专利事务所 代理人 叶树明
主权项 1.一种半导体装置封装结构,其特征在于:所述半导体装置封装结构,包含:一基底具有一晶粒置入通孔、一连接穿孔及一第一接触垫;一晶粒配置于该晶粒置入通孔之内;一环绕层充塡于该晶粒与该晶粒置入通孔侧壁间之间隙,及/或形成于该晶粒之下表面;一介电层形成于该晶粒与该基底之上;一重布层形成于该介电层之上且耦合至该第一接触垫;一保护层形成于该重布层之上;以及一第二接触垫形成于该基底之下表面及该连接穿孔结构之下。
地址 中国台湾新竹县湖口乡新竹工业区光复北路65号