| 摘要 |
Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania powłok antyrefleksyjnych na podłożu szklanym o ulepszonych właściwościach czyszczących przeznaczonym do stosowania jako szkło szklarniowe, pokrywy ogniw fotowoltaicznych, pokrywy kolektorów słonecznych, pokryć lamp, a także jako szkło stosowane w architekturze stanowiące szyby wystawowe i gabloty. Sposób wytwarzania powłok antyrefleksyjnych polega na tym, że podłoże szklane poddaje się procesowi oczyszczania metodą zanurzania korzystnie w wodnym roztworze kwasu fluorowodorowego lub w kwasie solnym i kwasie fluorowodorowym, po czym powierzchnie czynne tak oczyszczonego podłoża szklanego poddaje się procesowi trawienia tej powłoki w kąpieli trawiącej z zastosowaniem procesu wodnej dyspersji politetrafluoroetylenu, przy czy proces trawienia warstwy antyrefleksyjnej prowadzi się w kąpieli złożonej z roztworu wodnego 15% kwasu heksafluorokrzemowego, do którego na każde jego 100g dodaje się od 11-15g uwodnionej krzemionki i 0,1-3g fluorku potasu, a na każde 100 ml tego roztworu dodaje się 8-12ml 2% wodnego roztworu kwasu borowego, 1-3ml wodnej dyspersji politetrafluoroetylenu oraz 1-4ml niejonowego środka powierzchniowo czynnego, przy czym proces tego trawienia prowadzi się w temperaturze 40-50°C i w czasie 40-80min. |
