发明名称 パッシベーション層形成用組成物、パッシベーション層付半導体基板、パッシベーション層付半導体基板の製造方法、太陽電池素子、太陽電池素子の製造方法及び太陽電池
摘要 一般式(I)で表される有機アルミニウム化合物と、一般式(II)で表される有機化合物と、を含むパッシベーション層形成用組成物。一般式(I)中、R1はそれぞれ独立して炭素数1〜8のアルキル基を表す。nは0〜3の整数を表す。X2及びX3はそれぞれ独立して酸素原子又はメチレン基を表す。R2、R3及びR4はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数1〜8のアルキル基を表す。
申请公布号 JPWO2014010744(A1) 申请公布日期 2016.06.23
申请号 JP20130554733 申请日期 2013.07.12
申请人 日立化成株式会社 发明人 田中 徹;吉田 誠人;倉田 靖;織田 明博;佐藤 鉄也;早坂 剛
分类号 H01L21/316;H01L31/04 主分类号 H01L21/316
代理机构 代理人
主权项
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