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发明名称 Apparatus for substrate wet treating having heating part in chemical bath and method of heating chemical for substrate treating using the apparatus
摘要
申请公布号 KR100752653(B1) 申请公布日期 2007.08.29
申请号 KR20060009808 申请日期 2006.02.01
申请人 发明人
分类号 H01L21/306;H01L21/304 主分类号 H01L21/306
代理机构 代理人
主权项
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