多核フェノール類を有するノボラック樹脂を含むレジスト下層膜形成組成物

摘要

【課題】 高いドライエッチング耐性とウイグリング耐性を有し、段差や凹凸部に対して良好な平坦化性や埋込性を発現するレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜形成組成物を提供する。【解決手段】 少なくとも３つのフェノール基を有し且つ該フェノール基は第３級炭素原子に結合した構造を有するか、又は該フェノール基はメチル基が結合した第４級炭素原子に結合した構造を有する化合物と、芳香族アルデヒド又は芳香族ケトンとを酸性触媒の存在下に反応させて得られるフェノールノボラック樹脂を含むレジスト下層膜形成組成物。フェノールノボラック樹脂が、下記式（１）の単位構造、式（２）の単位構造、式（３）の単位構造、式（４）の単位構造、又はそれら単位構造の組み合わせ：【化１】を含むレジスト下層膜形成組成物。【選択図】 図１