发明名称 THIN-FILM TRANSISTOR
摘要 기판 상에, 게이트 전극과, 반도체층과, 상기 게이트 전극과, 그 반도체층의 사이에 마련된, 유기 고분자 화합물로 형성된 게이트 절연층과, 그 반도체층에 접하여 마련되고, 그 반도체층을 통하여 연결된 소스 전극 및 드레인 전극을 갖는 박막 트랜지스터로서, 상기 게이트 절연층 중, Mg, Ca, Ba, Al, Sn, Pb, Cr, Mn, Fe, Ni, Cu, Zn 및 Ag로부터 선택되는 금속의 함유량이 총량으로 10ppb~1ppm이거나, 또는 할로젠 이온, 황산 이온, 질산 이온 및 인산 이온으로부터 선택되는 비금속 이온성 물질의 함유량이 총량으로 1ppm~100ppm인, 박막 트랜지스터.
申请公布号 KR20160105524(A) 申请公布日期 2016.09.06
申请号 KR20167021339 申请日期 2015.02.26
申请人 FUJIFILM CORPORATION 发明人 TAKIZAWA HIROO
分类号 H01L29/786;H01L51/00;H01L51/05 主分类号 H01L29/786
代理机构 代理人
主权项
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