发明名称 可适应性扫描光学显微镜
摘要 本发明是关于一种可适应性扫描光学显微镜。在这种可适应性扫描光学显微镜中装有一个扫描透镜组装部件,能够从目标平面的不同部分获取图像,然后形成更加合适的弯曲像场。在形成的像场中,至少会有一些像差,所述像差作为成像部位在目标平面上位置的函数变化。一个控制反射镜会对成像部位进行选择和将从目标平面来的光线进行控制转向,使其沿着一条从目标平面到成像平面的光路运行。一个可适应性光学元件会接收来自目标,经过控制转向的光线,并且会对取决于成像位置的像差进行补偿。在光路的至少部分位置上有附加的光学器件,所述光学器件在光线从控制反射镜,通过可适应性光学元件,最终到达成像平面的运行过程中,会对所述光线进行调节和聚焦。
申请公布号 CN100585449C 申请公布日期 2010.01.27
申请号 CN200580045412.6 申请日期 2005.12.29
申请人 伦斯勒理工学院 发明人 本杰明·迈克尔·波特赛德;伊夫·贝鲁尔德;约翰·T·文
分类号 G02B26/08(2006.01)I;G02B21/36(2006.01)I;G02B21/06(2006.01)I 主分类号 G02B26/08(2006.01)I
代理机构 北京华夏博通专利事务所 代理人 刘 俊
主权项 1.一种可适应性扫描光学显微镜,其特征在于,包括:一个对不同的选定的场位置进行有限成像的扫描透镜组装部件,这样,光学像差成为场位置的函数,根据选定场位置的不同而变化,扫描透镜组装部件形成一个像场;成像可控仪器,所述成像可控仪器将来自每个场位置的光线进行可控转向,然后使光线沿着从目标到最终成像平面的光路运行,沿着光路上的光线具有一个波阵面;一个可适应性光学元件,所述可适应性光学元件能够影响光路中波阵面的形状,从而对至少一部分的取决于场位置的光学像差进行补偿,同时向光路中光波阵面引入选定的形状;附加成像光学器件,所述附加成像光学器件在光路的至少部分位置上,能够对可适应性光学元件和最终成像平面的光线进行处理,所述附加成像光学器件包括将图像投射到最终成像平面的最终成像光学器件。
地址 美国纽约