发明名称 Verfahren zur thermischen Behandlung einer Substratoberfläche mittels Laserlicht
摘要 Verfahren zur thermischen Behandlung einer Oberfläche eines Flächensubstrates, mittels eines Lasers (1) zur Erzeugung eines auf die Substratoberfläche (7) gerichteten, gepulst betriebenen Laserstrahls, der zur Erzeugung eines homogen ausgeleuchteten Laserstrahlquerschnittes eine, einer Strahlformungs- und Homogenisierungseinheit (3) im Strahlengang nachfolgende Maske (4) gleichmäßig ausleuchtet, wobei der Laserstrahlquerschnitt einen durch k > 3 geradlinige Begrenzungslinien einbeschriebenen Umfangsrand aufweist und mittels einer wenigstens um zwei Raumachsen (x-y) schwenkbaren Ablenkeinheit (5) und einer im Strahlengang der Ablenkeinheit (5) nachfolgenden Optikeinheit (6) auf die Substratoberfläche (7) abgebildet wird, wobei der Optikeinheit (6) ein auf der Substratoberfläche (7) begrenzter Aperturbereich (FOV) (10) zugeordnet wird und das Flächensubstrat wenigstens längs einer ersten Raumachse relativ zum ruhenden Aperturbereich (10) bewegt wird und der Laserstrahl unabhängig von der Bewegung des Flächensubstrats längs der ersten und längs einer, zu der ersten Raumachse orthogonal orientierten zweiten Raumachse, die parallel zur Substratoberfläche (7) ausgerichtet ist, innerhalb des Aperturbereiches (10) räumlich verteilt ausgelenkt und positioniert wird, wobei der Laserstrahl wenigstens unter Maßgabe der zwei nachfolgenden räumlichen Auslenkkriterien für jeden Laserpuls relativ zur Substratoberfläche (7) derart räumlich positioniert wird, dass die Bestrahlung der Substratoberfläche (7) derart erfolgt, dass benachbart auf der Substratoberfläche (7) abgebildete, einer Vielzahl m einzelner Laserpulse zugeordneter Laserstrahlquerschnitte nahtlos jeweils mit Abschnitten ihrer Umfangsränder aneinandergrenzen und einen Bestrahlungslayer ausbilden und dass die Substratoberfläche zumindest in einem Teilbereich wiederholt unter Ausbildung jeweils n Bestrahlungslayern n-mal, mit n ≥ 2 bestrahlt wird, wobei die Umfangsränder von auf der Substratoberfläche (7) abgebildeten Laserstrahlquerschnitten, die zu unterschiedlichen Bestrahlungslayern gehören, jeweils einen konstant vorgegebenen räumlichen Versatz aufweisen und wobei die räumliche Positionierung zweier jeweils zeitlich aufeinander folgender Laserpulse in Bezug auf die Ortsposition innerhalb eines Bestrahlungslayers und/oder in Bezug auf die Zugehörigkeit zu jeweils einem Bestrahlungslayer stochastisch vorgenommen wird.
申请公布号 DE102007025943(B4) 申请公布日期 2016.08.04
申请号 DE20071025943 申请日期 2007.06.04
申请人 Coherent GmbH 发明人 Pätzel, Rainer;Simon, Frank;Turk, Brandon A., Dr.
分类号 H01L21/268 主分类号 H01L21/268
代理机构 代理人
主权项
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