首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 Verfahren zum selektiven Entfernen von Siliziumdioxid
摘要
申请公布号 DE59611182(D1) 申请公布日期 2005.02.24
申请号 DE19965011182 申请日期 1996.04.19
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 SCHEITER, THOMAS;NAEHER, DR.;HIEROLD, DR.
分类号 H01L21/00;H01L21/311;(IPC1-7):H01L21/311 主分类号 H01L21/00
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com