| 发明名称 | 其中形成预凹坑的信息记录介质、记录/再现设备和方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种信息记录介质，能够快速封口以及有效数据记录/再现，并且公开了一种记录/再现设备和方法。该信息存储介质包括封口区，在该封口区的至少一部分内，在制造该信息存储介质的同时，形成沟槽内预凹坑和平面预凹坑。 | ||
| 申请公布号 | CN101587719A | 申请公布日期 | 2009.11.25 |
| 申请号 | CN200910149973.0 | 申请日期 | 2007.04.06 |
| 申请人 | 三星电子株式会社 | 发明人 | 田坂修一;李坰根 |
| 分类号 | G11B7/007(2006.01)I;G11B7/013(2006.01)I;G11B19/12(2006.01)I;G11B27/32(2006.01)I | 主分类号 | G11B7/007(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 王 冉 |
| 主权项 | 1.一种在信息存储介质上记录数据或从信息存储介质再现数据的方法，该方法包括：从信息存储介质的预定区域读取表示在封口区内已经形成预凹坑的信息，在所述信息存储介质内，在所述信息存储介质制造的同时，在封口区的至少一部分内形成沟槽内预凹坑和平面预凹坑；以及基于该信息控制数据记录操作。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||