| 发明名称 | 用于基板的蚀刻设备 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种用于基板的蚀刻设备，包括：蚀刻溶液的蚀刻箱；盒，具有安置于其中的多个基板且该盒安装在该蚀刻箱内；多孔板，安装在该盒的下表面上；多个排出部件，设置在所述多孔板中并对应于所述基板，每个所述排出部件具有多个排出口。该蚀刻设备还包括多条第一管线，分别连接到所述排出口，并被供给以气体从而通过排出口向基板提供气泡。所述第一管线分成多个组，至少一个组被供给有压力不同于供给到其它组的气体压力的气体。 | ||
| 申请公布号 | CN101086957A | 申请公布日期 | 2007.12.12 |
| 申请号 | CN200710108881.9 | 申请日期 | 2007.06.05 |
| 申请人 | 三星电子株式会社 | 发明人 | 金贞燮;任大淳;卜胜龙 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01);H01L21/306(2006.01);H01L21/67(2006.01) | 主分类号 | H01L21/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 张波 |
| 主权项 | 1.一种用于基板的蚀刻设备，包括：包括蚀刻溶液的蚀刻箱；盒，具有安置于其中的多个基板且该盒安装在该蚀刻箱内；多孔板，安装在该盒的下表面上；多个排出部件，设置在所述多孔板中并对应于所述基板，其中每个所述排出部件包括多个排出口；以及多条第一管线，分别连接到所述排出口，并被提供有气体从而通过所述排出口向所述基板提供气泡，其中所述第一管线分成多个组，且至少一个组被供给有压力不同于供给到其它组的气体压力的气体。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||