发明名称 |
表面凹凸的制作方法 |
摘要 |
本发明提供一种使用光掩模,可轻易且以高精度形成所希望的凹凸形状的表面凹凸的制作方法。在包含感光性树脂组合物的感光膜(10)的一侧,相对于感光膜(10)隔着间隔而配置具有光透射部与光不透射部的掩模构件(20),在掩模构件(20)的感光膜(10)的相反侧配置光扩散构件(30)。从配置在光扩散构件(30)的掩模构件(20)的相反侧的光源照射光,通过光扩散构件(30)与掩模构件(20)的光透射部而将感光膜(10)进行曝光。利用显影来除去感光膜(10)的曝光部或未曝光部,在感光膜(10)制作取决于曝光部或未曝光部的形状的凹凸。在进行曝光时,控制光扩散构件(30)的浊度等曝光条件,控制曝光部或未曝光部的形状。 |
申请公布号 |
CN101636671A |
申请公布日期 |
2010.01.27 |
申请号 |
CN200880008970.9 |
申请日期 |
2008.03.19 |
申请人 |
木本股份有限公司 |
发明人 |
饵取英树 |
分类号 |
G02B5/02(2006.01)I;B29C33/38(2006.01)I;B29C33/42(2006.01)I;G02B3/00(2006.01)I;G02F1/1335(2006.01)I;G02F1/13357(2006.01)I;B29L11/00(2006.01)I |
主分类号 |
G02B5/02(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
李贵亮 |
主权项 |
1.一种表面凹凸的制作方法,其是在材料表面制作微细凹凸的方法,其中,包括:在包含感光性树脂组合物的感光膜的一侧,相对所述感光膜保持间隔而配置具有光透射部和光不透射部的掩模构件的工序;在所述掩模构件的与所述感光膜相反的一侧配置光扩散构件的工序;由配置在所述光扩散构件的与掩模构件相反的一侧的光源照射光,并通过所述光扩散构件和所述掩模构件的光透射部而对所述感光膜进行曝光的工序;以及利用显影除去所述感光膜的曝光部或未曝光部,并在所述感光膜制作取决于曝光部或未曝光部的形状的凹凸的工序,在所述进行曝光的工序中,控制曝光条件,控制所述曝光部或未曝光部的形状。 |
地址 |
日本国东京都 |