SUBSTRATE WITH RECESS PORTION FOR MICROLENS, MICROLENS SUBSTRATE, TRANSMISSIVE SCREEN, REAR TYPE PROJECTOR, AND METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE WITH RECESS PORTION FOR MICROLENS,申请号KR20040106096-传众专利搜索

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发明名称	SUBSTRATE WITH RECESS PORTION FOR MICROLENS, MICROLENS SUBSTRATE, TRANSMISSIVE SCREEN, REAR TYPE PROJECTOR, AND METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE WITH RECESS PORTION FOR MICROLENS
摘要
申请公布号	KR20050061333(A)	申请公布日期	2005.06.22
申请号	KR20040106096	申请日期	2004.12.15
申请人	SEIKO EPSON CORPORATION	发明人	SHIMIZU NOBUO
分类号	G03B21/62;B29D11/00;G02B3/00;G03B21/10;(IPC1-7):G02B3/00	主分类号	G03B21/62
代理机构		代理人
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