发明名称 共轴调节装置及使用该装置的共轴调节方法
摘要 本发明涉及半导体生产和加工领域。本发明提供了一种共轴调节装置,用于在半导体设备中对晶圆固定盘和喷头进行共轴调节,该共轴调节装置包括晶圆固定盘、定位板、定位座、喷头以及激光器件;其中的晶圆固定盘能够在竖直方向上升或下降,并在水平方向沿着X轴、Y轴平移,晶圆固定盘上开有定位孔,用于安装定位板;定位板的下方设置有遮挡物,该遮挡物上开有至少两条狭缝,两条狭缝的相交线在晶圆固定盘的中心轴Z上;其中的喷头开有安装孔,定位座通过安装孔和定位柱安装于喷头,定位座上搭载有激光器件的发射部和接收部。
申请公布号 CN105990203A 申请公布日期 2016.10.05
申请号 CN201510081687.0 申请日期 2015.02.15
申请人 盛美半导体设备(上海)有限公司 发明人 代迎伟;金一诺;王坚;王晖
分类号 H01L21/68(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I 主分类号 H01L21/68(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人 施浩
主权项 一种共轴调节装置,用于在半导体设备中对晶圆固定盘和喷头进行共轴调节,其特征在于,包括晶圆固定盘、定位板、定位座、喷头以及激光器件;所述晶圆固定盘在竖直方向具有上升和下降的自由度,在水平方向具有沿着或平行于横向的X轴方向平移的自由度和沿着或平行于纵向的Y轴方向平移的自由度,所述X轴垂直于所述Y轴;所述晶圆固定盘上开设有一组定位孔,所述定位板通过相应数目的定位桩与所述晶圆固定盘连接,所述定位板由定位孔和定位桩配合固定于晶圆固定盘后,所述晶圆固定盘与所述定位板的相对位置唯一;所述定位板的下方设置有遮挡物,该遮挡物至少留有两条沿着所述晶圆固定盘的径向贯通的第一狭缝和第二狭缝,所述第一狭缝所在的面和所述第二狭缝所在的面均垂直于水平面,所述第一狭缝所在的面与第二狭缝所在的面的相交线位于所述晶圆固定盘的中心轴Z上,且所述第一狭缝所在的面平行于X轴,所述第二狭缝所在的面平行于Y轴;所述喷头上开设有至少两组安装孔,分别为第一组安装孔和第二组安装孔,所述第一组安装孔和所述第二组安装孔在水平面内绕喷头的中心轴Z’呈90°旋转对称,所述定位座通过相应数目的定位柱与所述第一组安装孔配合固定于所述喷头,或者所述定位座通过相应数目的定位柱与所述第二组安装孔配合固定于所述喷头;所述定位座上安装有激光器件,该激光器件包括发射部和接收部,所述发射部向所述接收部定向发射激光束,所述接收部接收到所述发射部发射出的激光束时所述激光器件产生感应信号,当所述定位座按照第一组安装孔和定位柱所确定的方式安装于所述喷头时,所述激光器件在所述发射部和所述接收部之间形成射线段L,该射线段L平行于水平面和X轴,且所述射线段L与所述喷头的中心轴Z’相交;当所述定位座按照第二组安装孔和定位柱所确定的方式安装于所述喷头时,所述激光器件在所述发射部和所述接收部之间形成射线段L’,该射线段L’平行于水平面和Y轴,且L’与所述喷头的中心轴Z’相交。
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