一种可提高膜层纯度的等离子法沉积膜层的装置

摘要

本发明公开一种膜层纯度高，可精确控制膜层厚度的等离子法沉积膜层的装置，包括有反应室、抽气设备、气体输送系统和脉冲微波发生器，抽气设备和气体输送系统与反应室连通，抽气设备设于反应室的下方，气体输送系统设于反应室上方，脉冲微波发生器向反应室供应产生的微波，在反应室下方的出气口于抽气设备的一侧设有等离子点火触头，采用本技术方案后，与现有技术相比，本低压等离子体化学气相沉积制得纳米薄膜的装置具有以下优点：1)膜层纯度高，不含多余无用的反应物(即污染物)，膜层粘附性得到提高；2)膜层厚度控制精确。

主权项

一种可提高膜层纯度的等离子法沉积膜层的装置，包括有反应室、抽气设备、气体输送系统和脉冲微波发生器，抽气设备和气体输送系统与反应室连通，抽气设备设于反应室的下方，气体输送系统设于反应室上方，脉冲微波发生器向反应室供应产生的微波，其特征在于：在反应室下方的出气口于抽气设备的一侧设有等离子点火触头。