发明名称 | 瓶型渠沟的形成方法 | ||
摘要 | 本发明提供一种瓶型渠沟(bottle-shaped trench)的形成方法。首先,提供具有一渠沟的一基底,其中渠沟具有一上部与一下部;然后,形成一氧化层于位在下部的渠沟的周围壁上;然后,以氧化层为罩幕,对渠沟进行一氮化程序,而形成一氮化膜于位在上部的渠沟的侧壁上;然后,去除氧化层;接着,以氮化膜为罩幕,对渠沟进行一等向性蚀刻程序而形成位在下部的一空间。 | ||
申请公布号 | CN1531064A | 申请公布日期 | 2004.09.22 |
申请号 | CN03119112.6 | 申请日期 | 2003.03.13 |
申请人 | 南亚科技股份有限公司 | 发明人 | 林瑄智;黄镇洲;张明成;廖显皓;陈锰宏 |
分类号 | H01L21/8242;H01L21/70 | 主分类号 | H01L21/8242 |
代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 王一斌 |
主权项 | 1.一种瓶型渠沟(bottle-shaped trench)的形成方法,包括下列步骤:提供一基底;形成一渠沟于该基底中,其中该渠沟具有一上部与一下部;形成一氧化层于位在下部的该渠沟的周围壁上;以该氧化层为罩幕,对该渠沟进行一氮化程序,而形成一氮化膜于位在上部的该渠沟的侧壁上;去除该氧化层;以及以该氮化膜为罩幕,对该渠沟进行一等向性蚀刻程序而形成位在下部的一空间。 | ||
地址 | 台湾省桃园县 |