显影方法、显影装置及电脑可读取之记录媒体

摘要

明之课题系提供可形成CD分布之均一性相当高的光阻之显影方法。此一显影方法系用以将基板表面上之曝光后之光阻膜显影而形成光阻图形，并依序具有下列步骤： (A)朝旋转之基板供给显影液； (B)使光阻膜与显影液反应；及 (C)为使光阻膜及显影液之反应停止，而从光阻膜表面去除显影液； 又，在(A)步骤中， 使用具有显影液之吐出口及从此吐出口往横方向扩展且与光阻膜对向之面之接液喷嘴，从吐出口将显影液供给至以光阻膜之表面与接液喷嘴之下端面形成之间隙，并且 在(C)步骤中，使已去除显影液之光阻膜表面之反应停止区域及与显影液之反应继续之光阻膜表面之反应进行区域的交界从光阻膜之中心部朝周缘部移动。

主权项

一种显影方法，其系将基板表面上之曝光后之光阻膜显影而形成光阻图形，并依序具有下列步骤： (A)步骤，藉着朝向以保持水平之状态旋转之该基板供给显影液而使该显影液遍及该光阻膜之表面上； (B)步骤，使该光阻膜与该显影液反应；及 (C)步骤，为使该光阻膜与该显影液之反应停止，而从该光阻膜表面去除该显影液； 又，在该(A)步骤中， 使用具有该显影液之吐出口及从该吐出口往横方向扩展且与该光阻膜对向配置之下端面的接液喷嘴，且 从该吐出口将该显影液供给至由该光阻膜之表面与该下端面所形成之间隙，并使该接液喷嘴从旋转之该基板的中心部朝周缘部移动； 在该(C)步骤中，使已去除该显影液之该光阻膜表面之反应停止区域及与该显影液之反应继续进行的该光阻膜表面之反应进行区域的交界从该光阻膜之中心部朝周缘部移动。