曝光方法及装置、以及元件制造方法

摘要

台(WST)之驱动中，藉由编码器系统之至少各一个X编码器与Y编码器之三个编码器(Enc1,Enc2及Enc3)测量载台(WST)在移动面内的位置资讯，并藉由控制装置，以在切换前后维持载台(WST)在移动面内之位置的方式，将用于测量载台(WST)在移动面内之位置之编码器，从编码器(Enc1,Enc2及Enc3)切换至编码器(Enc4,Enc2及Enc3)。因此，即使进行用于载台之位置控制之编码器的切换，亦能在切换前后维持载台在移动面内的位置，正确地进行连续衔接。

主权项

一种曝光方法，系透过投影光学系统与液体以照明光使基板曝光，其包含：藉由设置成包围该投影光学系统下端部之嘴单元，于该投影光学系统下以该液体形成液浸区域的动作；藉由载置该基板之载台将该基板与该对准系统对向配置，以藉由从该投影光学系统分离配置之对准系统检测该基板之标记的动作；藉由该载台将该基板与该投影光学系统对向配置，以透过该投影光学系统与该液浸区域之液体以该照明光使该基板曝光的动作；藉由于该载台设有格子部与读头之其中一方且该格子部与该读头之另一方相对该投影光学系统设于该嘴单元之外侧之编码器系统之与该格子部对向之复数个该读头，测量该载台之位置资讯的动作；以及根据该编码器系统之测量资讯，控制该载台之移动的动作；在该标记之检测动作与该基板之曝光动作中分别藉由该编码器系统测量该载台之位置资讯；在该载台之移动中，将该编码器系统中用于测量之该复数个读头之一个切换至另一读头；在该切换后，藉由包含该复数个读头中除了该一个读头以外之剩余读头与该另一读头的复数个读头测量该载台之位置资讯；根据藉由该切换前所使用之该复数个读头测量之位置资讯，取得用以在该切换后使用该另一读头控制该载台之移动之修正资讯。