发明名称 | 光学元件结构及用于其的光学元件制造工艺 | ||
摘要 | 本发明提供了一种光学元件结构和该光学元件结构的制造工艺。光学元件制造工艺包括提供其上形成有突出物的衬底;以及通过沉积方案在突出物和衬底上方形成上覆涂层以形成光学元件。 | ||
申请公布号 | CN103941313B | 申请公布日期 | 2016.06.29 |
申请号 | CN201310141615.1 | 申请日期 | 2013.04.22 |
申请人 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 发明人 | 曾俊豪;郭英颢;陈海清;包天一 |
分类号 | G02B6/136(2006.01)I | 主分类号 | G02B6/136(2006.01)I |
代理机构 | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人 | 章社杲;孙征 |
主权项 | 一种光学元件制造方法,包括:提供其上形成有一组块体的衬底,每个块体都具有可控的纵横比;以及通过沉积方案在所述一组块体和所述衬底上方形成上覆涂层以根据所述纵横比形成光学元件,所述上覆涂层具有凸起部分和凹进部分,所述凸起部分和所述凹进部分分别具有各自的曲率半径,其中,所述一组块体具有密度参数,所述沉积方案具有旋涂速度参数,所述上覆涂层具有相对于所述一组块体的粘性参数和界面性能参数。 | ||
地址 | 中国台湾新竹 |