薄膜晶体管基板及其制造方法

摘要

本发明涉及一种薄膜晶体管基板制造方法，其步骤包括：提供一绝缘基底；依次在该绝缘基底上沉积一透明导电金属层和一栅极金属层；在一道光罩制程中形成预定图案的像素电极与栅极；在该绝缘基底、像素电极与栅极上沉积一栅极绝缘层；在该栅极绝缘层上形成具有预定图案的半导体层；在该栅极绝缘层上形成一接触孔图案；在该半导体层和该栅极绝缘层上形成源/漏极图案。本发明的制造方法采用一道光罩制程形成预定图案的像素电极与栅极，可简化制程，降低成本。本发明还提供一采用该方法制造的薄膜晶体管基板。

主权项

1.一种薄膜晶体管基板制造方法，其步骤包括：在一绝缘基底上依次沉积一透明导电金属层和一栅极金属层；在该栅极金属层上沉积一光阻层；以一具有预定图案的光罩对该光阻层进行曝光和显影，形成具有预定图案的光阻层；对该透明导电金属层与栅极金属层进行蚀刻，形成具有预定图案的像素电极与栅极；去除剩余光阻层。