| 发明名称 | 银纳米线的制造方法和银纳米线及使用该银纳米线的油墨 | ||
| 摘要 | 银纳米线的制造方法，其是在溶解了银化合物的醇溶剂中使银以线状还原析出的银纳米线的制造方法，其特征在于，在溶解有氯化物、溴化物、碱金属氢氧化物、铝盐及具有乙烯基吡咯烷酮和二烯丙基二甲铵(Diallyldimethylammonium)盐单体的聚合组成的共聚物即有机保护剂的醇溶剂中进行所述析出；将溶解于所述溶剂的铝盐的Al总量和碱金属氢氧化物的氢氧根离子总量的摩尔比Al/OH设为0.01～0.40；将溶解于所述溶剂的碱金属氢氧化物的氢氧根离子总量和银化合物的Ag总量的摩尔比OH/Ag设为0.005～0.50，由此，可稳定地制造适合透明导电体的制造的、平均直径50nm以下且平均长度10μm以上的细且长的银纳米线。 | ||
| 申请公布号 | CN106068166A | 申请公布日期 | 2016.11.02 |
| 申请号 | CN201580012415.3 | 申请日期 | 2015.03.03 |
| 申请人 | 同和控股(集团)有限公司 | 发明人 | 斋藤宏敏;儿玉大辅;佐藤王高 |
| 分类号 | B22F9/24(2006.01)I;B22F1/00(2006.01)I;B22F1/02(2006.01)I;B22F9/00(2006.01)I;H01B1/00(2006.01)I;H01B1/22(2006.01)I;H01B5/00(2006.01)I;H01B13/00(2006.01)I | 主分类号 | B22F9/24(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 王永红 |
| 主权项 | 银纳米线的制造方法，其是在溶解了银化合物的醇溶剂中使银以线状还原析出的银纳米线的制造方法，其特征在于，在溶解有氯化物、溴化物、碱金属氢氧化物、铝盐及有机保护剂的醇溶剂中进行所述析出；将溶解于所述溶剂的铝盐的Al总量和碱金属氢氧化物的氢氧根离子总量的摩尔比Al/OH设为0.01～0.40；将溶解于所述溶剂的碱金属氢氧化物的氢氧根离子总量和银化合物的Ag总量的摩尔比OH/Ag设为0.005～0.50。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||