发明名称 |
一种微型全分析系统芯片高度定位方法 |
摘要 |
本发明涉及一种微型全分析系统芯片高度定位方法:先用标准芯片调整光源和芯片工作台高度,使俯视时可观察到的光源聚焦点小于、等于微通道的宽度;工作芯片包括盖片和基片,键合法使基片的上表面与盖片下表面紧密贴合,盖片上刻有小孔,基片的上表面刻有微通道,所述小孔分别与相应的微通道相通,盖片的面积大于基片的面积,形成工作芯片安放在于芯片工作台上时的支撑定位面,使盖片上的支撑定位面与芯片工作台的台面相接触。本发明提供的芯片高度定位方法,可以避免芯片由于材料或加工技术差别,造成的芯片厚度差别带来的高度定位误差,不需要人工的反复调整也不需要高成本、高技术的自动调节系统,可轻松简单地保证每一块芯片相对于光源高度的正确定位。 |
申请公布号 |
CN1888943A |
申请公布日期 |
2007.01.03 |
申请号 |
CN200610025730.2 |
申请日期 |
2006.04.14 |
申请人 |
上海光谱仪器有限公司 |
发明人 |
王鹗;陈建钢;方群;刘志高;王伟;张涛;富景林;张大伟 |
分类号 |
G02B7/00(2006.01);G01M11/00(2006.01) |
主分类号 |
G02B7/00(2006.01) |
代理机构 |
上海申汇专利代理有限公司 |
代理人 |
俞宗耀 |
主权项 |
1.一种微型全分析系统芯片高度定位方法,其特征在于方法为:1)用标准芯片调整光源(7)和芯片工作台(9)的高度,使俯视时可观察到的光源聚焦点(5)小于、等于微通道(4)的宽度;2)工作芯片包括盖片(1)和基片(2),用键合法使所述基片(2)的上表面与所述盖片(1)的下表面紧密贴合,盖片(1)上刻有小孔(8),基片(2)的上表面刻有微通道(4),所述小孔(8)分别与相应的所述微通道(4)相通,所述盖片(1)的面积大于基片(2)的面积,形成支撑定位面(3);3)将工作芯片安放在于芯片工作台(9),使所述盖片上的支撑定位面(3)与芯片工作台(9)的台面相接触。 |
地址 |
200233上海市漕河泾高新技术开发区钦州北路1122号91号楼十楼 |