发明名称 |
一种图形化衬底及其制备方法 |
摘要 |
本发明提供了一种图形化衬底及其制备方法,使用两次显影光刻的工艺,在增加图形高度及底座面积的同时获得适于外延生长的图形化衬底。具体技术方案为:S1、提供一基本衬底;S2、对所述基本衬底进行第一次蚀刻,得到具有周期性阵列的第一图案的图形化衬底,所述相邻第一图案底部边缘任意位置处的距离大于或等于0而小于或等于0.1微米;S3、对所述S2中的图形化衬底进行第二次蚀刻,得到具有周期性阵列的第二图案的图形化衬底,所述第二图案的底部边缘通过第二次蚀刻形成复数个蚀刻部,使得所述相邻第二图案底部边缘任意位置处的距离均大于0.1微米,以利于后续外延层的生长。 |
申请公布号 |
CN106067504A |
申请公布日期 |
2016.11.02 |
申请号 |
CN201610597887.6 |
申请日期 |
2016.07.27 |
申请人 |
安徽三安光电有限公司 |
发明人 |
寻飞林;张家宏;蔡吉明;林兓兓;李政鸿;曾双龙;吴洪浩;徐志军;李毕庆 |
分类号 |
H01L33/22(2010.01)I;H01L21/02(2006.01)I |
主分类号 |
H01L33/22(2010.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种图形化衬底的制备方法,其特征在于,所述方法包括如下步骤:S1、提供一基本衬底;S2、对所述基本衬底进行第一次蚀刻,得到具有周期性阵列的第一图案的图形化衬底,所述相邻第一图案底部边缘任意位置处的距离大于或等于0,小于或等于0.1微米;S3、对所述步骤S2中的图形化衬底进行第二次蚀刻,得到具有周期性阵列的第二图案的图形化衬底,所述第二图案的底部边缘通过第二次蚀刻形成复数个蚀刻部,使得所述相邻第二图案底部边缘任意位置处的距离均大于0.1微米,以利于后续外延层的生长。 |
地址 |
241000 安徽省芜湖市经济技术开发区东梁路8号 |