发明名称 通过反应性沉积形成致密涂层
摘要 形成涂覆的基材的方法可以基于将来自流体的材料沉积到基材上,其中涂覆材料是由该流体内的反应形成的。在处理室(300)中,产物材料可以在由从经由光入射端口(320)供应的辐射束吸收的光子能量驱动的反应中形成。具有产物流的流体可以经由连接到喷嘴(308)的气体/蒸气入口管道(306)引导至基材并通过排放端口(322)排出。基材可以经由,例如臂(318)相对于流体移动,所述臂(318)平移基材架(316)通过产物流。涂覆材料可以以密度为完全致密化涂覆材料密度的65%至95%在非常高水平的涂层均匀性下形成。
申请公布号 CN101119807A 申请公布日期 2008.02.06
申请号 CN200580048103.4 申请日期 2005.12.07
申请人 内诺格雷姆公司 发明人 夏夫库马·奇拉沃卢;迈克尔·E·蔡平
分类号 B05D1/02(2006.01);B05D1/34(2006.01);B05D1/42(2006.01);C23C16/02(2006.01);C23C16/455(2006.01);C23C16/48(2006.01);C23C14/02(2006.01) 主分类号 B05D1/02(2006.01)
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 宋莉;贾静环
主权项 1.涂覆基材的方法,该方法包括:通过将辐射束引导至反应物流使流动的反应物流反应以在辐射束的下游产生产物流,其中反应由来自辐射束的光子能量驱动;以及将上述产物流引导至在流体中选择性定位的基材以利用来自该产物流的涂覆材料以完全致密化涂覆材料密度的至少约65%的密度涂覆该基材。
地址 美国加利福尼亚州