发明名称 单晶拉制机与重型晶体的制造方法
摘要 提出一种拉制机和一种方法,利用此拉制机可按Czochralski-法使用拉制机拉制出特别重型的晶体。为此,晶体的颈部具有一变粗部位,它由一支承装置从下方抓住。该支承装置配有棘爪(7),该棘爪可从一静止位置进入到一工作位置,在工作位置上时棘爪(7)从下方抓住变粗部位。每个棘爪(7)都可围绕一摆动轴(8)摆动地支承在基体上,并可占有两个稳定位置,即静止位置和工作位置。这两个位置中的每一个都由基体上的一止挡来限定。若棘爪贴靠在一个止挡上,则棘爪的重心从颈部(4)观察位于摆动轴(8)的对面;若棘爪贴靠在另一止挡上,则该重心处于摆动轴(8)的这一边。棘爪(7)的操作是利用固定在拉制机上的操作元件来实现的。
申请公布号 CN101144178A 申请公布日期 2008.03.19
申请号 CN200710136999.2 申请日期 2007.07.26
申请人 晶体生成系统有限责任公司;斯尔特罗尼克公司 发明人 B·阿尔特克鲁杰;S·亨克尔;A·冯霍夫;E·汤兹格;D·克尼勒
分类号 C30B15/00(2006.01);C30B15/30(2006.01) 主分类号 C30B15/00(2006.01)
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 曹若;赵辛
主权项 1.单晶拉制机、特别是按Czochralski-法的单晶拉制机,它配有:一晶体提升及旋转装置,利用该装置,晶体在其颈部处悬垂地从一熔液中被拉制出来,其中颈部具有一上部较细的部位和一下部较粗的部位,其间有一变粗部位;一对于晶体提升及旋转装置进行补充的、用于晶体的支承装置,该支持装置具有一可独立于晶体提升及旋转装置下降的、可协同晶体提升及旋转装置上升的基体,在该基体上至少如此地被支承着两个棘爪,使得这两个棘爪可以从一静止位置移动到一工作位置中,在静止位置上时,棘爪可使所述变粗部位经过;在工作位置上时,棘爪则从下方抓住该变粗部位,其特征在于,每个棘爪(7)都可围绕一摆动轴(8)摆动地被支承在基体(1)上;基体(1)对于每个棘爪(7)都具有一决定静止位置的止挡和一决定工作位置的止挡,其中这两个止挡是如此布置的,使得在静止位置上时从颈部(4)观察,棘爪(7)的重心处在摆动轴(8)的对面,而在工作位置上时其重心则处于摆动轴(8)的这一边。
地址 德国阿斯拉尔