发明名称 | 光刻机透镜像差的检测装置及其方法 | ||
摘要 | 本发明公开了一种光刻机透镜像差的检测方法,包括:第1步,开启入射光发生装置,入射光照射到光栅上,通过光栅的衍射光或反射光照射到透镜上,通过透镜的折射光照射到硅片平台上;第2步,调整所述硅片平台和所述透镜的距离、位置,直至所述折射光在所述硅片平台上形成焦点;第3步,所述硅片平台上集成的检测器测量所述焦点的位置、形状、大小和焦距并判断是否符合要求;第4步,沿X轴、Y轴和/或Z轴转动所述光栅,使所述衍射光或反射光照射到所述透镜的不同位置,重复第1步至第4步。本发明还公开了与上述方法对应的检测装置,本发明可实现自动检测、监控光刻机透镜像差,对于提高产品良品率,设备的利用效率都有帮助。 | ||
申请公布号 | CN101634808A | 申请公布日期 | 2010.01.27 |
申请号 | CN200810043651.3 | 申请日期 | 2008.07.21 |
申请人 | 上海华虹NEC电子有限公司 | 发明人 | 王雷 |
分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 | 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人 | 顾继光 |
主权项 | 1.一种光刻机透镜像差检测装置,其特征是:所述装置包括:一入射光发生装置,发射入射光;一成像透镜,选取所述光刻机的主透镜;一光栅和一硅片平台,分别放置在所述透镜的光路两侧;一检测器,集成在所述硅片平台上,测量通过所述透镜的折射光在所述硅片平台上形成的焦点的位置、形状、大小和焦距。 | ||
地址 | 201206上海市浦东新区川桥路1188号 |