发明名称 四斜面阵列可展结构和发泡板材及其制备方法
摘要 本发明公开了一种四斜面阵列可展结构,由若干个单元结构四方连续构成,所述单元结构的长度折叠半角和宽度折叠半角均为大于0°而小于180°,该结构几何展开后为一完整平面;采用此四斜面阵列可展结构作为芯材的发泡板材及其制备方法。本发明四斜面阵列可展结构比强度、比刚度高,耐疲劳性强,且其设计性强,具有可展性,可通过结构参数优化设计提高其力学性能;由其增强的泡沫板材,具有质量轻、比强度、比刚度高等特点,而且具有隔音降噪、耐疲劳等优点,其芯材结构尺寸多样,设计性强,同时板材具有很好拼接性,可以根据需要拼接为所需的形状和尺寸。
申请公布号 CN105754321A 申请公布日期 2016.07.13
申请号 CN201610298096.3 申请日期 2016.05.06
申请人 微刻(北京)科技有限公司 发明人 姜开宇;宋涛;赵骥
分类号 C08L75/04(2006.01)I;C08L63/00(2006.01)I;C08L101/00(2006.01)I;C08K7/06(2006.01)I 主分类号 C08L75/04(2006.01)I
代理机构 北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙) 11357 代理人 刘洪勋
主权项 一种四斜面阵列可展结构,其特征在于:由若干个单元结构四方连续构成,所述单元结构的长度折叠半角和宽度折叠半角均为大于0°而小于180°,该结构几何展开后为一完整平面。
地址 100082 北京市海淀区西三旗育新花园小区57号楼3单元104
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