发明名称 |
四斜面阵列可展结构和发泡板材及其制备方法 |
摘要 |
本发明公开了一种四斜面阵列可展结构,由若干个单元结构四方连续构成,所述单元结构的长度折叠半角和宽度折叠半角均为大于0°而小于180°,该结构几何展开后为一完整平面;采用此四斜面阵列可展结构作为芯材的发泡板材及其制备方法。本发明四斜面阵列可展结构比强度、比刚度高,耐疲劳性强,且其设计性强,具有可展性,可通过结构参数优化设计提高其力学性能;由其增强的泡沫板材,具有质量轻、比强度、比刚度高等特点,而且具有隔音降噪、耐疲劳等优点,其芯材结构尺寸多样,设计性强,同时板材具有很好拼接性,可以根据需要拼接为所需的形状和尺寸。 |
申请公布号 |
CN105754321A |
申请公布日期 |
2016.07.13 |
申请号 |
CN201610298096.3 |
申请日期 |
2016.05.06 |
申请人 |
微刻(北京)科技有限公司 |
发明人 |
姜开宇;宋涛;赵骥 |
分类号 |
C08L75/04(2006.01)I;C08L63/00(2006.01)I;C08L101/00(2006.01)I;C08K7/06(2006.01)I |
主分类号 |
C08L75/04(2006.01)I |
代理机构 |
北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙) 11357 |
代理人 |
刘洪勋 |
主权项 |
一种四斜面阵列可展结构,其特征在于:由若干个单元结构四方连续构成,所述单元结构的长度折叠半角和宽度折叠半角均为大于0°而小于180°,该结构几何展开后为一完整平面。 |
地址 |
100082 北京市海淀区西三旗育新花园小区57号楼3单元104 |