METHOD FOR PROVIDING LATERAL THERMAL PROCESSING OF THIN FILMS ON LOW-TEMPERATURE SUBSTRATES

摘要

선택적 방식으로 최소한으로 흡수하는 박막을 열적으로 프로세싱하기 위한 방법이 개시된다. 2개의 가깝게 이격된 흡수 트레이스들이 박막과 열적으로 접촉하여 패터닝된다. 펄스화된(pulsed) 라디언트 소스(radiant source)는 2개의 흡수 트레이스들을 가열하는데 사용되며, 박막은 2개의 흡수 트레이스들 사이에 전도를 통해 열적으로 프로세싱된다. 이 방법은 박막이 반도체인 박막 트랜지스터(TFT)를 제조하는데 이용될 수 있으며, 흡수체(absorber)들은 TFT의 소스 및 드레인이다.