THE MASK-FREE TYPE DRY ETCHER AND THE METHOD THEREFOR

摘要

본 발명은 패턴된 포토레지스트 등의 마스크 없이도 특정한 패턴으로 박막을 건식 식각할 수 있는 마스크프리(mask-free) 건식 식각 장치 및 식각 방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 마스크프리 건식 식각 장치는, 내부를 대기압보다 낮은 제1 기압으로 감압할 수 있는 진공 챔버; 상기 진공 챔버 내부 하측에 설치되며, 식각 작업이 진행될 기판이 상면에 탑재된 상태에서 상기 기판을 수평 이동시키는 기판 탑재대; 상기 기판 탑재대 상측에 설치되며, 상기 기판 탑재대에 탑재된 기판에 일정한 크기의 스팟 형태로 식각용 플라즈마를 분사하는 스팟 플라즈마 분사부; 상기 스팟 플라즈마 분사부 외측을 감싸는 형태로 설치되며, 상기 스팟 플라즈마 분사부에서 분사되는 상기 식각용 플라즈마를 모두 흡입하여 외부로 배출하는 플라즈마 배출부;를 포함한다.