发明名称 |
孔形成方法以及测量装置 |
摘要 |
针对载置了近场光产生元件的绝缘性的膜,在电解液中对膜照射光的同时,或在对膜照射光之后将膜设置于电解液中之后,对在电解液中隔着膜设置的两个电极之间施加第一电压,之后对两个电极之间施加第二电压,在电流值到达或超过预先设定的阈值的情况下使检测通过施加第二电压而在两个电极之间流动的电流值的过程停止,由此在薄膜的期望位置打孔。 |
申请公布号 |
CN106133507A |
申请公布日期 |
2016.11.16 |
申请号 |
CN201580015959.5 |
申请日期 |
2015.03.26 |
申请人 |
株式会社日立高新技术 |
发明人 |
板桥直志;右高园子;柳至;赤堀玲奈;武田健一 |
分类号 |
G01N27/00(2006.01)I;B82Y40/00(2006.01)I;G01N21/64(2006.01)I;G01N21/65(2006.01)I |
主分类号 |
G01N27/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京银龙知识产权代理有限公司 11243 |
代理人 |
范胜杰;曹鑫 |
主权项 |
一种孔形成方法,对膜形成孔,其特征在于,反复进行以下工序:第一工序,针对载置了近场光产生元件的绝缘性的膜,在电解液中对上述膜照射光的同时,或在对上述膜照射光之后将上述膜设置于上述电解液中之后,对在上述电解液中隔着上述膜设置的第一电极与第二电极之间施加第一电压;以及第二工序,在上述第一工序之后,对上述第一电极与上述第二电极之间施加第二电压,检测通过施加上述第二电压而在上述第一电极与上述第二电极之间流动的电流值,在上述电流值到达或超过预先设定的阈值的情况下停止反复进行上述第一工序和上述第二工序的过程。 |
地址 |
日本东京都 |