| 发明名称 |
APPARATUS AND METHOD FOR TREATING SUBSTRATE COMPRISING THE SAME |
| 摘要 |
본 발명은 기판 처리 장치 및 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 플라즈마를 이용한 기판 처리 장치 및 방법에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치는 내부에 공간을 가지는 챔버, 상기 공간에서 기판을 지지하는 지지 유닛, 상기 공간으로 공정가스를 공급하는 가스 공급 유닛 및 상기 챔버의 측벽에 제공되는 온도조절유닛을 포함한다. |
| 申请公布号 |
KR20160134930(A) |
申请公布日期 |
2016.11.24 |
| 申请号 |
KR20150066823 |
申请日期 |
2015.05.13 |
| 申请人 |
SEMES CO., LTD. |
发明人 |
CHO, SOON CHEON;JEON, HYUN BIN |
| 分类号 |
H01L21/3065;H01L21/67;H01L21/683 |
主分类号 |
H01L21/3065 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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