薄膜构图衬底、薄膜形成方法和薄膜元件

摘要

公开了诸如EL器件之类的其像素间薄膜厚度几乎没有变化的显示器件，以及一种滤色器。在衬底上设置的是由喷墨方法在要被涂敷的并由堤所分隔的区域中形成的像素，其满足公式a＞d/4，d/2＜b＜5d，c＞t₀和c＞d/(2b)的关系。其中a为堤的宽度，c为堤的高度，b为要被涂敷的区域的宽度，而d为形成薄膜层的液体材料的液滴直径，t₀是薄膜层的膜厚度。还公开了一种修改表面的方法，包括在形成表面的无机物堤上形成有机材料的堤，并在过量氟的条件下进行等离子体处理。还有一种方法，包括对具有由有机材料形成的堤的衬底进行氧气等离子体处理，并进行含氟气体的等离子体处理。

主权项

1.一种薄膜构图衬底，用于在形成有预定高度的堤和由所述堤分隔成的要被涂敷的区域的表面上通过喷墨方法将薄膜形成为图形，其特征在于：当所述堤的宽度为a微米，其高度设为c微米，要被涂敷的区域的宽度为b微米，而形成薄膜层的液体材料的喷墨液滴直径为d微米时，所述堤满足下列关系：i)d/2＜b＜5d；ii)a＞d/4；iii)c＞t0，其中t0是薄膜层的膜厚度，以微米为单位；iv)c＞d/(2b)。