| 发明名称 |
Displacement measurement systems lithographic apparatus |
| 摘要 |
<p>A displacement measurement system configured to provide measurement of the relative displacement of two components in six degrees of freedom with improved consistency and without requiring excessive space.</p> |
| 申请公布号 |
EP1865291(A2) |
申请公布日期 |
2007.12.12 |
| 申请号 |
EP20070016985 |
申请日期 |
2007.03.09 |
| 申请人 |
ASML NETHERLANDS B.V. |
发明人 |
KLAVER, RENATUS GERARDUS;VAN DER PASCH, ENGELBERTUS ANTONIUS FRANSISCUS;LOOPSTRA, ERIK ROELOF |
| 分类号 |
G03F7/20;G01D5/38 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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