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发明名称
液体ターゲット材料のためのスパッタリングシステム
摘要
スパッタリングシステムは、基板上に液体金属膜を堆積するためのマグネトロンアセンブリを備える。マグネトロンアセンブリは、液体金属ターゲットを有する水平平面型マグネトロン、金属ターゲットを有する円筒形の回転可能なマグネトロンおよび平面型と回転可能なマグネトロンとの間にチャンバーを形成する1つまたは複数の遮蔽板の一組を備える。【選択図】なし
申请公布号
JP2014527580(A)
申请公布日期
2014.10.16
申请号
JP20140525183
申请日期
2012.08.10
申请人
ヌボサン,インコーポレイテッド
发明人
デニス・アール・ホラーズ
分类号
C23C14/34;H01L31/0749;H01L31/18
主分类号
C23C14/34
代理机构
代理人
主权项
地址
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