发明名称 Method for improving germanide growth and devices obtained thereof
摘要 The present invention is related to the field of semiconductor processing and, more particularly, to the formation of low resistance layers on germanium substrates.
申请公布号 EP2031644(A2) 申请公布日期 2009.03.04
申请号 EP20080163442 申请日期 2008.09.01
申请人 IMEC 发明人 BRUNCO, DAVID;MEURIS, MARC
分类号 H01L21/285 主分类号 H01L21/285
代理机构 代理人
主权项
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