发明名称 |
光敏的防反射底面涂层 |
摘要 |
提供防反射组合物以及使用这些组合物形成电路的方法。所述组合物包含溶于或分散于溶剂系统中的聚合物。优选的聚合物包括聚碳酸酯类、聚磺酸酯类、聚碳酸酯-砜类以及它们的混合物。所述组合物可以施涂到硅片或其它基材上,形成开始时不溶于一般光致抗蚀剂显影溶液中的固化或硬化层。当暴露到光中时,所述固化或硬化的层在光致抗蚀剂显影溶液中变得可溶,使所述层和显影的光致抗蚀剂层一起选择性除去,由此取消单独的除去步骤。 |
申请公布号 |
CN100999582A |
申请公布日期 |
2007.07.18 |
申请号 |
CN200710005128.7 |
申请日期 |
2003.07.28 |
申请人 |
布鲁尔科技公司 |
发明人 |
D·J·古尔瑞罗 |
分类号 |
C08G75/24(2006.01);C09D181/08(2006.01);G03F7/09(2006.01);G03C1/492(2006.01);G03C1/76(2006.01);G03C1/825(2006.01) |
主分类号 |
C08G75/24(2006.01) |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 |
代理人 |
周承泽 |
主权项 |
1.一种聚合物,它包含具有选自如下通式(II)的重复单体:<img file="A2007100051280002C1.GIF" wi="1039" he="161" />式中,X<sup>1</sup>选自二醇和二肟的官能团部分;X<sup>2</sup>选自芳基和烷基;X<sup>1</sup>和X<sup>2</sup>中至少一个包含芳族基团。 |
地址 |
美国密苏里州 |