用于PECVD薄膜沉积的气体反应装置和方法

摘要

一种用于PECVD薄膜沉积的气体反应装置，包括：进气管、气体混合器、两个以上的出气管及流量控制器；所述气体混合器的一端与所述进气管连接，所述气体混合器的另一端与所述出气管连接，所述气体混合器与所述进气管、所述出气管之间气体流通；所述流量控制器用于控制所述出气管内的气体流量；所述出气管还用于与喷淋头连接，所述出气管用于将所述气体混合器内混合后的反应气体通过所述喷淋头喷洒到晶圆表面。从而能够对PECVD薄膜各个区域所需的反应气体量进行控制，进而能够调节PECVD薄膜局部沉积速率以提升PECVD薄膜的均匀性。此外，还提供一种调节简单、效率高的用于PECVD薄膜沉积的气体反应方法。

主权项

一种用于PECVD薄膜沉积的气体反应装置，其特征在于，包括：进气管、气体混合器、两个以上的出气管及流量控制器；所述气体混合器的一端与所述进气管连接，所述气体混合器的另一端与所述出气管连接，所述气体混合器与所述进气管、所述出气管之间气体流通；所述气体混合器的顶部设有反应腔盖，所述气体混合器的底部设有托盘，反应气体通过所述进气管进入到所述气体混合器时，所述气体混合器底部的托盘截断所述气体混合器与所述出气管之间的气体连通性；当所述气体混合器中的反应气体达到气体混合器的容量阈值时，通过所述气体混合器顶部的反应腔盖截断所述气体混合器与所述进气管之间的气体连通性，当所述气体混合器内的反应气体得到充分反应后，打开所述气体混合器底部的托盘，使所述气体混合器与所述出气管之间气体连通；所述流量控制器用于控制所述出气管内的气体流量；所述出气管还用于与喷淋头连接，所述出气管用于将所述气体混合器内混合后的反应气体通过所述喷淋头喷洒到晶圆表面；所述出气管输出的反应气体经由所述喷淋头的固定区域喷洒到晶圆表面；所述喷淋头呈锥斗形，其中，所述喷淋头的扩张口用于喷淋反应气体到晶圆表面，所述喷淋头的小口与出气管连接。