| 发明名称 | 配向膜平台、配向膜制程及配向膜制程设备 | ||
| 摘要 | 一种配向膜平台与配向膜制程，其中，配向膜平台具有一承载部设置于一座体上。一配向膜放置于承载部之上，承载部的面积小于座体的面积。且于座体的承载部外缘，则设置有集污结构。 | ||
| 申请公布号 | CN1584711A | 申请公布日期 | 2005.02.23 |
| 申请号 | CN200410048903.3 | 申请日期 | 2004.06.09 |
| 申请人 | 友达光电股份有限公司 | 发明人 | 何岳暾;张景雄 |
| 分类号 | G02F1/1337 | 主分类号 | G02F1/1337 |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所 | 代理人 | 任永武 |
| 主权项 | 1.一种配向膜平台，其特征在于包含：一座体，其上具有一承载部，且该承载部的面积小于该座体的面积；以及一集污结构，位于该座体上的该承载部外缘。 | ||
| 地址 | 台湾省新竹科学工业园区新竹市力行二路一号 | ||