发明名称 | 固态成像装置及其制造方法 | ||
摘要 | 本发明公开了一种固态成像装置,包括:半导体衬底;设置在所述半导体衬底上或上方的一个或多个线路层间膜;以及,嵌入在所述线路层间膜中的一个或多个金属连线。所述一个或多个线路层间膜由防止所述金属连线扩散的扩散阻止材料构成。 | ||
申请公布号 | CN1787221A | 申请公布日期 | 2006.06.14 |
申请号 | CN200510129482.1 | 申请日期 | 2005.12.09 |
申请人 | 索尼株式会社 | 发明人 | 武田健 |
分类号 | H01L27/14(2006.01);H01L23/522(2006.01);H01L21/822(2006.01);H01L21/768(2006.01) | 主分类号 | H01L27/14(2006.01) |
代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 陶凤波;侯宇 |
主权项 | 1.一种固态成像装置,包括:半导体衬底;设置在所述半导体衬底上或上方的一个或多个线路层间膜;以及嵌入在所述线路层间膜中的一个或多个金属连线,其中,所述一个或多个线路层间膜由防止所述金属连线扩散的扩散阻止材料构成,并且其中,所述一个或多个线路层间膜彼此邻接。 | ||
地址 | 日本东京都 |