Apparatus of solvent vapor treatment for DSA and method of forming pattern by using the same

摘要

챔버 하우징부(chamber housing) 내에 설치되어 블록코폴리머(block copolymer)층이 형성된 기판이 올려지는 기판 장착부, 블록코폴리머층을 어닐링(annealing)하는 어닐링 소스(source)부 및 블록코폴리머층에 솔벤트 기상(solvent vapor)를 다수의 슬릿(slit)들을 통해 제공하는 솔벤트(solvent) 기상 분배부를 포함하는 직접자기조립(DSA)을 위한 솔벤트 기상(solvent vapor) 처리 장치 및 이를 사용하는 패턴 형성 방법을 제시한다.