| 发明名称 |
Dry film photoresist |
| 摘要 |
A dry film photoresist includes a functional polymer. The functional polymer has alpha , beta -unsaturated groups and groups that generate a free radical upon exposure to actinic radiation.
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| 申请公布号 |
EP1460478(A1) |
申请公布日期 |
2004.09.22 |
| 申请号 |
EP20040251444 |
申请日期 |
2004.03.12 |
| 申请人 |
ETERNAL TECHNOLOGY CORPORATION |
发明人 |
BARR, ROBERT K.;ANZURES, EDGARDO;LUNDY, DANIEL |
| 分类号 |
G03F7/027;C07D233/54;C08F2/50;C08G18/10;C08G18/67;C08G18/68;C08L25/14;C08L63/00;C08L75/16;G03F7/031;G03F7/033;G03F7/038;(IPC1-7):G03F7/031 |
主分类号 |
G03F7/027 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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