| 发明名称 | 滤色片阵列基板的制造方法 | ||
| 摘要 | 一种滤色片阵列基板的制造方法，它包括：在基板上形成黑矩阵；在基板和黑矩阵上沉积彩色光阻剂；以及为彩色光阻剂形成图形，以形成滤色片层。彩色光阻剂的沸点范围约为70℃到80℃，其粘度范围约为3到5厘泊，其固体颗粒含量低于或等于大约20℃。 | ||
| 申请公布号 | CN1629699A | 申请公布日期 | 2005.06.22 |
| 申请号 | CN200410091461.0 | 申请日期 | 2004.11.24 |
| 申请人 | LG.菲利浦LCD株式会社 | 发明人 | 殷钟赞;具东孝;刘晙荣 |
| 分类号 | G02F1/1335;G02F1/136;G03F7/20;G02B5/20 | 主分类号 | G02F1/1335 |
| 代理机构 | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人 | 徐金国;梁挥 |
| 主权项 | 1.一种滤色片阵列基板的制造方法，它包括：在基板上形成黑矩阵；在基板和黑矩阵上沉积彩色光阻剂；以及对彩色光阻剂进行构图以形成滤色片层，其中彩色光阻剂的沸点范围约为70℃到80℃，粘度范围约为3到5厘泊，固体颗粒含量低于或等于约20％。 | ||
| 地址 | 韩国汉城 | ||