| 发明名称 | 基底处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种依次使用多种处理溶液的基底处理装置。该基底处理装置包括用于独立地收集所使用的处理溶液的处理液体收集室，和用于独立地排出在处理过程中产生的污染气体的排放部件。 | ||
| 申请公布号 | CN101000862A | 申请公布日期 | 2007.07.18 |
| 申请号 | CN200610149725.2 | 申请日期 | 2006.11.20 |
| 申请人 | 细美事有限公司 | 发明人 | 具教旭;金正珉 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01);H01L21/30(2006.01);H01L21/306(2006.01);H01L21/67(2006.01) | 主分类号 | H01L21/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 武玉琴;张友文 |
| 主权项 | 1.一种使用多种处理溶液的基底处理装置，所述装置包括：支撑部件，用于承接其上的基底并旋转所述基底；处理液体供给部件，用于将处理溶液提供给置于所述支撑部件之上的所述基底；处理液体收集部件，其形成有用于放置所述支撑部件的空间，并包括多个处理液体收集室，这些处理液体收集室布置得用于独立地收集由所述处理液体供给部件提供的处理溶液；排放部件，用于独立地排出在处理所述基底过程中从所述处理溶液产生的污染气体；以及升降部件，其移动所述支撑部件和所述处理液体收集部件之中的至少一个，以相对于所述处理液体收集室的入口改变所述支撑部件的高度。 | ||
| 地址 | 韩国忠清南道 | ||